1、本產品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉變成低分子化合物，如CO2、H2O等。
2、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有立竿見影的清除效果。
3、惡臭氣體利用排風設備輸入到本凈化設備后，凈化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協同分解氧化反應，使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。
4、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，徹底達到脫臭及殺滅細菌的目的．
二、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。
UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對工業廢氣及其它刺激性異味有立竿見影的清除效果。
三、工業廢氣利用排風設備輸入到本凈化設備后，凈化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對工業廢氣進行協同分解氧化反應，使工業廢氣物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。                  

  四、利用高能UV光束裂解工業廢氣中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，徹底達到凈化及殺滅細菌的目的。
  產品性能綜述：
 一、高效除惡臭：能高效去除揮發性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，凈化、脫臭效率最高可達99%以上，凈化、脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）．
 二、無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使工業廢氣通過本設備進行分解凈化，無需添加任何物質參與化學反應。，
 三、適應性強：可適應高濃度，大氣量，不同工業廢氣物質的凈化處理，可每天24小時連續工作，運行穩定可靠。
 四、運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設備能耗低，（每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.2度電能），設備風阻極低＜50pa,可節約大量排風動力能耗。
 五、無需預處理：工業廢氣無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等,設備工作環境溫度在攝氏-30℃－95℃之間，濕度在30%－98%、PH值在3-11之間均可正常工作。
 六、設備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風量。
 七、優質進口材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩定，使用壽命長。
適用范圍：煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉運站等惡臭氣體、工業廢氣的凈化處理   光催化廢氣凈化設備工藝 光催化氧化是在外界可見光的作用下發生催化作用,光催化氧化反應是以半導體及空氣為催化劑，以光為能量，將有機物降解為CO2和H2O。本公司采用的半導體是目前反應效率最高的納米TiO2光催化劑，經纖維棉載附特殊處理后使用，達到理想效果。
     在光催化氧化反應中，通過紫外光照射在納米TiO2光催化劑上產生電子空穴對，與表面吸附的水份（H2O）和氧氣（O2）反應生成氧化性很活波的羥基自由基（OH-）和超氧離子自由基（O2-、0-）。能夠把各種廢臭氣體如醛類、苯類、氨類、氮氧化物、硫化物及其它VOC類有機物、無機物在光催化氧化的作用下還原成二氧化碳（CO2）、水（H2O）以及其它無毒無害物質,同時具有除臭、消毒、殺菌的功效，由于在光催化氧化反應過程中無任何添加劑，所以不會產生二次污染。