TKZS-24紫外線消毒器|RZ-UV2-LS 100紫外線殺菌器|ZD-XZY30-10紫外線廠家|SZX-7紫外線消毒儀|MHW-II-U-1P-0.6紫外線滅菌儀

根據2003年7月1日起實施的《城鎮污水處理廠污染物排放標準》(GB18918—2002)的要求，污水處理廠出水執行一級B標準．其處理后出水的糞大腸菌群必須達到10000個L。按常規，二級生活污水處理廠的尾水中糞大腸菌群數一般都在105～109個L左右．所以必須采用消毒才能達到排放標準要求.

紫外C水消毒系統采用國際上九十年代末先進的現代紫外C消毒技術，以特殊的設計、工藝和材料制造的高教率、高強度、長壽命的紫外C消毒裝置為基礎，利用紫外c所具有的高效、廣譜殺滅能力來殺滅水中的細菌、病毒、寄生蟲、原生動物等，達到水凈化和消毒的目的。紫外C消毒技術具有高效、廣譜、廉價、長壽、無需添加任何物質，不產生任何二次污染的特點，近幾年來以其獨特的優越性在水處理領域倍受青睞，越來越廣泛地應用于改墻水、工農業、食品、制藥行業生產用水、工業回用水及污水等的滅菌消毒處理。目前的污水處理廠的尾水消毒，相當數量采用了冠宇紫外消毒設備進行_消毒處理冠宇紫外線消毒系統工作時，需處理的水按設計要求的流速流過消毒模塊，特制高效紫外燈輻射出強紫外C光線(波長253．7nm)。紫外C水消毒效果取決于水中細菌病毒可接受到的紫外劑量(紫外強度和照射時間乘積)。當紫外劑量達到一定時，紫外光能量使水中的細菌、病毒以及其它致病體的DNA內部結構遭到破壞，失去活性而殺滅，水質得到消毒凈化。

2系統使用條件

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水溫：5℃～50℃；使用環境溫度：一5"C～50℃周圍相對濕度：不大于93％(溫度25

℃時)污水：進入消毒設備的污水要求ICM的透射率(T254)：40％：其它要求滿足國家《城鎮污

水處理廠污染物排放標準》GB 18918—2002中的二級標準。電壓：交流電380V±IOV，50Hz

3紫外消毒設備基本組成

GYF開放式紫外C污水消毒系統采用模塊化設計，根據用戶實際需求、水處理量與不同

水質特點等因素選用相應功率和數量的紫外消毒模塊，使用時將紫外消毒模塊置于消毒渠內(見圖1)，外加各種控制模塊即可構成消毒系統．使用與維護方便。

NLQ開放式紫外C污水消毒系統由七個部分組成：紫外消毒模塊、空壓機與氣動裝置、安裝與遮光附件、鎮流器電箱、中央控制柜，水位控制裝置。

GYF紫外消毒模塊

GYF紫外消毒模塊以GYF開放式紫外C消毒排架(以下簡稱為排架，見圖2)為基本

單位。排架主要由不銹鋼框架、紫外燈、玻管、清洗架、氣缸、電纜及各種密封件緊同件等.