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半導體含氟廢水及拋光廢水處理技術

發布時間:2013年2月23日 來源:深圳市恒大興業環保科技有限公司

無機廢水:調節池+中和反應;含氟廢水及拋光廢水:調節池+中和反應+混凝沉淀,有機廢水:外運處理。半導體含氟廢水及拋光廢水處理技術節能型功率電子器件用拋光片產業化....

無機廢水:調節池+中和反應;含氟廢水及拋光廢水:調節池+中和反應+混凝沉淀,有機廢水:外運處理。半導體含氟廢水及拋光廢水處理技術

節能型功率電子器件用拋光片產業化項目F-25廢水處理站
工程地點
津華苑產業區(環外)海泰東路12號
工作范圍
總承包(不包括土建施工)
項目起始時間
2008年11月
廢水性質
電子廢水
工程規模
無機廢水480m3/d,含氟廢水120m3/d,拋光廢水360m3/d,有機廢水50m3/d。
設計水質
無機廢水SS =400mg/L ,pH=1-11;含氟廢水F =1000-3000mg/L,SS=1000mg/L ,pH=2;    拋光廢水SS =3000mg/L ,pH=2-10;有機廢水COD =5000-10000mg/L ,pH=2-11。
設計出水水質及用途
出水必須達到《天津市污水綜合排放標準》三級標準開發區(CODcr =500mg/L;F=20 mg/L,SS=500mg/L)。
主要工藝
無機廢水:調節池+中和反應;含氟廢水及拋光廢水:調節池+中和反應+混凝沉淀,有機廢水:外運處理。
工程特點
本工藝處理的廢水有無機機廢水,含氟廢水、拋光廢水和有機廢水。無機廢水廢水的pH值超標,故為了減少投資和節約成本,僅通過調節廢水的pH后直接排放;含氟廢水和拋光廢水的區別主要為,含氟廢水中含有F離子,而其他指標和拋光廢水接近,考慮此情況,故對含氟廢水先進行加氯化鈣藥劑去除F離子,然后和拋光廢水混合一起進行混凝沉淀處理;有機廢水由于COD值很高,并且難生化處理,考慮到廢水量較小,故將有機廢水收集后直接外運處理。

 


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